<200606 금속재료기사>
2021.12.21 - [공부/금속재료] - 200606 금속재료기사 금속조직학
2021.12.22 - [공부/금속재료] - 200606 금속재료기사 금속재료학
2021.12.23 - [공부/금속재료] - 200606 금속재료기사 야금공학
2021.12.24 - [공부/금속재료] - 200606 금속재료기사 금속가공학
2021.12.25 - [공부/금속재료] - 200606 금속재료기사 표면공학
81. 철강, 아연 도금 제품 및 알루미늄 등을 인산염액에 처리하여 내식성을 지니는 피막을 형성가는 기술은 파커라이징이다.
*본데라이징 : 파커라이징의 개량법이다. 내식성 향상은 미미하지만 도료처리에 매우 적합하다.
82. PVD 종류
- 음극 스퍼터링, 이온도금, 진공증착법
83. DC 스퍼터링(Sputtering)에 대한 설명
- 비교적 구석구석 도금이 잘된다.
- 조성이 복잡한 것도 적용시킬 수 있다.
- 고에너지로 기판에 들어오게 되므로 밀착강도가 높다.
84. CVD법의 특징
- 처리온도가 약 1000℃
- 파이프의 내면 미립자 등에도 피복이 가능
- 형성된 피막은 모재와 확산 또는 반응을 일으켜 밀착성이 매우 좋다.
85. 용접제품에 응력제거 풀림에 의하여 기대되는 효과
- 치수의 변형방지
- 용접잔류응력의 제거
- 노치인성 및 강도의 증가
86. 진공의 단위
- Bar, mmHg, kWh 등
87. 주사전자현미경에 사용되는 전자총에 대한 설명
- 물질에 열을 가하여 일함수 이상의 에너지를 제공하면 전자는 고유의 위치로부터 벗어나 공중으로 방출된다.
88. Ti는 용융점이 높아 공업적으로 용융도금에 적합하지 않다.
89. Al합금, Cu합금, Ti합금 등을 시효처리 전에 실시하는 열처리로서 합금중의 용질원자를 모재에 고용시키는 방법은 용체화처리이다.
90. 전기도금이나 무전해도금 피막 중에 미립자를 분산시켜 도금하는 분산도금의 분산재
- Al₂O₃
- SiC
- 다이아몬드
91. Ni은 양극산화하기 어려운 금속이다
- Al, Mg, Ti는 양극산화에 적합한 금속
92. 심냉처리에 대한 설명
- 공구강에 필요한 열처리
- 심냉처리하면 퀜칭경도가 증가된다.
- 잔류 오스테나이트가 존재하면 퀜칭 경도가 저하된다.
- 마텐자이트를 펄라이트로 변태시킨다.
93. 오스테나이트계 스테인리스강을 용접 후 950℃에서 열처리를 할 필요가 있는 경우
- 내식성의 향상이 필요할 때
94. CVD 방법의 종류
- MO CVD
- 감압 CVD
- 플라즈마 CVD
95. 침탄성 가스의 종류
- CO
- CH4
- C3H8
96. 도금하려는 금속의 석출 전압과 낮은 전압으로 도금액의 불순물을 제거하는 방법은 약전해법이다.
97. 전해처리 의한 양극산화처리방법
- 황산법, 크롬산법, 옥살산법
98. 염욕에 의한 열처리 시 중성염욕 중에서 강재의 침식을 일으키는 원인
- 고온에서 대기 중의 산소 존재
- 염욕에 함유된 유해 불순물
- 염욕 자체의 흡수성에 의한 수분
99. 용융아연도금에 대한 설명
- 아연은 공기 중에서 부식속도가 매우 느리다.
- 수용액 중에 염화물이 있으면 보호 피막이 형성되지 않는다.
- 산성이나 알칼리 수용액에서 부식된다.
100. 주사전자현미경의 특징
- 시편의 홀더로 알루미늄과 구리가 사용
- 비전도성 재료는 금속박막코팅이 필요
- 2차 전자를 이용하여 대상의 형상을 이미지화 한다.
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