<190804 금속재료기사>
2021.12.26 - [공부/금속재료] - 190804 금속재료기사 금속조직학
2021.12.27 - [공부/금속재료] - 190804 금속재료기사 금속재료학
2021.12.28 - [공부/금속재료] - 190804 금속재료기사 야금공학
2021.12.29 - [공부/금속재료] - 190804 금속재료기사 금속가공학
2021.12.30 - [공부/금속재료] - 190804 금속재료기사 표면공학
81. Faraday 법칙에 관한 설명
- 전기도금 시 석출량은 원자량에 비례한다
- 전기도금 시 석출량은 원자가에 반비례한다.
- 화학당량을 페러데이(Faraday)로 나눈 값을 전기화학당량이라 한다.
- 전류가 많이 흐를수록, 시간이 많이 지날수록 석출되는 물질의 질량은 많아진다.
82. 강재의 열처리 결함에서 탈탄의 방지대책
- 탈탄방지제를 도포한다.
- 강의 표면에 도금을 한다.
- 분위기 가스에서 가열하거나 진공가열을 한다.
83. 화성피막처리에 구리이온, 질산염 등을 첨가하여 처리시간을 5~10분으로 단축시킨 피막 처리법은 본데라이징법이다.
84. 화학적 기상도긍(CVD)법의 특징
- 처리온도가 1000℃
- 두꺼운 피복도 가능하며, 여러 성분의 피복도 가능하다.
- 형성된 피막은 모재와 확산 또는 반응을 일으켜 밀착성이 매우 좋다.
85. 아노다이징의 처리의 목적
- 표면착색
- 내식성 향상
- Al₂O₃ 피막형성
86. 공업적으로 쓰이고 있는 양극산화 방법
- 황산법, 수산법, 크롬산법
87. 전자현미경에 프로브의 크기는 전자선의 회절효과와 렌즈의 수차에 따라 결정되는데, 전자광학계의 결함에 의해서 발생되는 렌즈 수차
- 색수차, 구면수차, 비점수차
88. 화학적 기상도금(CVD)으로는 플라즈마 CVD가 있다.
89. 착염욕에 대한 특징
- 단순염욕에 비하여 균일전착성이 우수
- 착염욕은 레벨링이 좋은 전착물을 얻기 힘들다.
- 단순염욕보다 높은 과전압하에서 이루어지기 때문에 석출물이 미립자이며, 밀도가 높다.
90. 열처리에서 뜨임 처리의 목적은 인성 부여이다.
91. 염욕 열처리 하기 전에 실시하는 강박 시험의 목적
- 염욕 중의 잔류 탄소량 추정
92. PVD법의 특징
- 코팅층의 표면이 균일하다.
- PVD법에는 진공증착,음극스패터링, 이온플레이팅 등이 있다.
- 고순도의 코팅층을 얻을 수 있다.
93. 고속도 공구강의 표면에 증착처리 방법으로 TiN과 TiC를 적층피복하려고 할 때 물리적 증착이 가장 적합하다.
94. 강의 경화능에 영향을 미치는 인자
- 탄소량, 합금원소량, 오스테나이트의 결정입도
95. 질화처리법에서 질화제로 주로 사용되는 가스는 암모니아이다.
96. ABS소재에 금속도금을 하여 장식성과 내식성을 부여하고자 할 때, 소재 에칭(Etching) 공정에 사용되는 주요 약품 성분은 크롬산-황산이다.
97. 전자빔이 시편에 조사될 때 상호작용으로 시편이 방출시키는 신호들 중 1차 전자가 에너지의 변화없이 방향을 바꾸어 방출되는 것으로 주사전자현미경에서 시편의 조성에 따른 명암차를 나타내는 역할을 수행하는 것은 후방산란 전자이다.
98. 피막 경도
TIN (2200) > TiCN (3000) < TiC (3700)
99. 화성처리에 대한 설명
- 금속의 방청 및 도장하지처리로 사용됨
- 주로 철강, 아연, 알루미늄을 대상으로 실시
- 화학적일 방법으로 무기염의 얇은 피막을 입히는 방법이다.
- 화성처리의 화합물 층은 기지와 같은 금속의 화합물이다.
100. 담금질 균열의 방지대책
- 시간담금질을 채용
- Ms-Mf 구역은 가능한 한 서냉한다.
- 살두께 차이 및 급변을 가급적 줄인다.
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